ચોકસાઇ ઉત્પાદન અને સપાટી પૂર્ણાહુતિની દુનિયામાં,સેરિયમ ઓક્સાઇડપોલિશિંગ પાવડર એક ગેમ-ચેન્જિંગ મટિરિયલ તરીકે ઉભરી આવ્યો છે. તેના અનોખા ગુણધર્મો તેને ઓપ્ટિકલ લેન્સની નાજુક સપાટીઓથી લઈને સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદનમાં હાઇ-ટેક વેફર્સ સુધી, પોલિશિંગ એપ્લિકેશન્સની વિશાળ શ્રેણીમાં આવશ્યક ઘટક બનાવે છે.
સેરિયમ ઓક્સાઇડની પોલિશિંગ પદ્ધતિ રાસાયણિક અને યાંત્રિક પ્રક્રિયાઓનું એક રસપ્રદ મિશ્રણ છે. રાસાયણિક રીતે,સેરિયમ ઓક્સાઇડ (સીઇઓ₂) સેરિયમ તત્વની ચલ સંયોજકતા અવસ્થાઓનો લાભ લે છે. પોલિશિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન પાણીની હાજરીમાં, કાચ જેવી સામગ્રીની સપાટી (મોટાભાગે સિલિકા, SiO₂) હાઇડ્રોક્સિલેટેડ બને છે.સીઇઓ₂પછી હાઇડ્રોક્સિલેટેડ સિલિકા સપાટી સાથે પ્રતિક્રિયા આપે છે. તે પહેલા Ce – O – Si બોન્ડ બનાવે છે. કાચની સપાટીના હાઇડ્રોલિટીક સ્વભાવને કારણે, આ આગળ Ce – O – Si(OH) માં પરિવર્તિત થાય છે.₃બોન્ડ.
યાંત્રિક રીતે, કઠણ, બારીક દાણાદારસેરિયમ ઓક્સાઇડકણો નાના ઘર્ષક પદાર્થોની જેમ કાર્ય કરે છે. તેઓ સામગ્રીની સપાટી પરની સૂક્ષ્મ અનિયમિતતાઓને ભૌતિક રીતે ઉઝરડા કરે છે. જેમ જેમ પોલિશિંગ પેડ દબાણ હેઠળ સપાટી પર ફરે છે,સેરિયમ ઓક્સાઇડકણો ઊંચા બિંદુઓ પર પીસે છે, ધીમે ધીમે સપાટીને સપાટ કરે છે. યાંત્રિક બળ કાચની રચનામાં Si – O – Si બંધનોને તોડવામાં પણ ભૂમિકા ભજવે છે, જેનાથી નાના ટુકડાઓના રૂપમાં સામગ્રી દૂર થાય છે.ની એક નોંધપાત્ર વિશેષતાસેરિયમ ઓક્સાઇડપોલિશિંગ એ પોલિશિંગ દરને સ્વ-વ્યવસ્થિત કરવાની તેની ક્ષમતા છે. જ્યારે સામગ્રીની સપાટી ખરબચડી હોય છે, ત્યારેસેરિયમ ઓક્સાઇડકણો આક્રમક રીતે પ્રમાણમાં ઊંચા દરે સામગ્રીને દૂર કરે છે. જેમ જેમ સપાટી સરળ બને છે, તેમ તેમ પોલિશિંગ દરને સમાયોજિત કરી શકાય છે, અને કેટલાક કિસ્સાઓમાં, "સ્વ-સ્ટોપ" સ્થિતિ સુધી પણ પહોંચી શકાય છે. આ સેરિયમ ઓક્સાઇડ, પોલિશિંગ પેડ અને પોલિશિંગ સ્લરીમાં ઉમેરણો વચ્ચેની ક્રિયાપ્રતિક્રિયાને કારણે છે. ઉમેરણો સપાટીની રસાયણશાસ્ત્ર અને વચ્ચેના સંલગ્નતાને સુધારી શકે છે.સેરિયમ ઓક્સાઇડકણો અને સામગ્રી, પોલિશિંગ પ્રક્રિયાને અસરકારક રીતે નિયંત્રિત કરે છે.
પોસ્ટ સમય: એપ્રિલ-૧૭-૨૦૨૫
